米国「ASMLの最先端EUV装置が中国に存在する可能性」、ASMLは否定
米国「ASMLの最先端EUV装置が中国に存在する可能性」、ASMLは否定
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| ジャンル | その他IT |
| 日付 | 2026-06-20 |
| 元記事 | TechCrunch |
要約
米国政府はオランダの半導体製造装置大手ASMLの最先端EUV（極端紫外線）リソグラフィ装置が中国国内に存在する可能性があると主張しているが、ASMLは否定している。EUVリソグラフィ装置は最先端ロジックチップ製造に不可欠な装置であり、輸出規制の中核的な対象となっている。装置が中国に渡っていれば、米中の半導体規制体制に重大な抜け穴が存在することになる。ASMLにとっては中国が依然大きな収益源であり、企業側には規制遵守と商業的利益の間で複雑な立場がある。真偽の検証が困難な中、米国の対中半導体規制の実効性が問われる事案として注目される。